M.Ito et al.: "Diagnostics of electron beam excited CF_4/Ar plasmas for silicon oxide etching"Proceedings of 16^<th> International Symposium on Plasma Chemistry. 364. 367 (2003)
M.Ito et al.: "Diagnostics of electron beam excited CF_4/Ar plasmas for silicon oxide etching"Proceedings of 16^<th> International Symposium on Plasma Chemistry. 364. 367 (2003)
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M.Ito等人：“用于氧化硅蚀刻的电子束激发CF_4/Ar等离子体的诊断”第16届国际等离子体化学研讨会论文集。
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