Low temperature epitaxial growth of Fe3Si on Si(111) substrate through ultra-thin SiO_2 films
Low temperature epitaxial growth of Fe3Si on Si(111) substrate through ultra-thin SiO_2 films
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超薄SiO_2薄膜在Si(111)衬底上低温外延生长Fe3Si
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Ueda;et al.
