シリサイド系半導体の科学と技術（前田佳均 編著）
シリサイド系半導体の科学と技術（前田佳均 編著）
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硅化物半导体科学与技术（前田义俊主编）
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
秋山賢輔，末益 崇,舟窪 浩（他12名共著）
中科院分区：
文献类型：
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作者：
齋藤彰太;多田翔太朗;名打圭佑;大幸裕介;本多沢雄;岩本雄二;秋山賢輔，末益 崇,舟窪 浩（他12名共著）
