S.Fukatsu, T.Takahashi, K.M.Itoh, M.Uematsu, 他: "The Effect of Partial Pressure of Oxygen on Self-Diffusion on Si in SiO_2"Jpn.J.Appl.Phy.. 42. 1492-1494 (2003)
S.Fukatsu, T.Takahashi, K.M.Itoh, M.Uematsu, 他: "The Effect of Partial Pressure of Oxygen on Self-Diffusion on Si in SiO_2"Jpn.J.Appl.Phy.. 42. 1492-1494 (2003)
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S.Fukatsu、T.Takahashi、K.M.Itoh、M.Uematsu 等：“氧分压对 SiO_2 中 Si 自扩散的影响”Jpn.J.Appl.Phy.. 42. 1492-1494 (2003)
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