Ultraviolet nanoimprint lithography using cyclodextrin-based porous template for pattern failure reduction
Ultraviolet nanoimprint lithography using cyclodextrin-based porous template for pattern failure reduction
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使用基于环糊精的多孔模板的紫外纳米压印光刻可减少图案故障
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Satoshi Takei and Makoto Hanabata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
谷口知大;Wayne M Saslow;Satoshi Takei and Makoto Hanabata
