Utilizing a photosensitive dry film resist in proton beam writing
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DOI：
10.35848/1347-4065/ac55e1
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发表时间：
2022-06-01
影响因子：
1.5
通讯作者：
Nishikawa，Hiroyuki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Seki，Hironori;Kawamura，Keiya;Nishikawa，Hiroyuki
