反応力場分子動力学シミュレーションによる窒化物半導体基板のナノバブルを用いた化学機械研磨プロセスの検討
反応力場分子動力学シミュレーションによる窒化物半導体基板のナノバブルを用いた化学機械研磨プロセスの検討
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利用反作用力场分子动力学模拟研究氮化物半导体衬底纳米气泡化学机械抛光工艺
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
木村颯太
中科院分区：
文献类型：
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作者：
三原大空;野口賢至;河原成元;松岡 健之・尾崎 典雅・奥地 拓生・瀬戸 雄介・宮西 宏併・高橋 謙次郎・羽原 英明・犬伏 雄一・籔内 俊毅・富樫 格・館野 繁彦・平尾 直久・大石 泰生・FAENOV Anatoly・PIKUZ Tatiana・兒玉 了祐・田中 和夫・矢橋 牧名・石川 哲也;Tomokazu Iyoda;建石寿枝;木村颯太
