Residual stress states in sputtered Ti1−xSixNy films
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DOI：
10.1016/s0040-6090(01)01672-8
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
F. Vaz
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F. Vaz
