Superconformal chemical vapor deposition using plasma-generated atomic species as a consumable growth inhibitor
Superconformal chemical vapor deposition using plasma-generated atomic species as a consumable growth inhibitor
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使用等离子体产生的原子物种作为消耗性生长抑制剂的超共形化学气相沉积
DOI：
10.1116/6.0001018
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发表时间：
2021
影响因子：
2.9
通讯作者：
Abelson, John R.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yang, Yu;Canova, Kinsey L.;Jayaraman, Sreenivas;Kim, Do-Young;Girolami, Gregory S.;Abelson, John R.
