Finishing of EUV photomask substrates by CNC precessed bonnet polisher
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使用 CNC 加工机盖抛光机对 EUV 光掩模基板进行精加工
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Beaucamp
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Md. Anisuzzaman Siddique;Asif Zaman;Yasuhiko Morimoto;A. Beaucamp
