H.Hamamura,R.Yamamoto,K.Takahiro,S.Yamaguchi,H.Komiyama,and Y.Shimogaki: "FMCVD (Flow Modulation Chemical Vapor Deposition) for reducing residual chlorine concentration in TiN films"Proc.Advanced Metallization Conference in 1998. 345-349 (1999)
H.Hamamura,R.Yamamoto,K.Takahiro,S.Yamaguchi,H.Komiyama,and Y.Shimogaki: "FMCVD (Flow Modulation Chemical Vapor Deposition) for reducing residual chlorine concentration in TiN films"Proc.Advanced Metallization Conference in 1998. 345-349 (1999)
复制标题
H.Hamamura、R.Yamamoto、K.Takahiro、S.Yamaguchi、H.Komiyama 和 Y.Shimogaki：“FMCVD（流量调节化学气相沉积）用于降低 TiN 薄膜中的残余氯浓度”Proc.1998 年高级金属化会议
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
