Preparation of atomically smooth surfaces via sputtering under glancing incidence conditions
Preparation of atomically smooth surfaces via sputtering under glancing incidence conditions
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在掠射条件下通过溅射制备原子级光滑表面
DOI：
10.1016/0039-6028(95)00228-6
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发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
O. Yordanov
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Holzwarth;M. Wissing;D. Simeonova;S. Tzanev;K. Snowdon;O. Yordanov
