Removal of phosphorus from metallurgical grade silicon by Ar-H2O gas mixtures
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DOI：
10.1016/s1003-6326(13)62890-3
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发表时间：
2013-11
影响因子：
4.5
通讯作者：
F. Li;P. Xing;Da-gang Li;Y. Zhuang;G. Tu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F. Li;P. Xing;Da-gang Li;Y. Zhuang;G. Tu
