Evaluation of strain in AlN thin films grown on sapphire and 6H-SiC by metalorganic chemical vapor deposition
Evaluation of strain in AlN thin films grown on sapphire and 6H-SiC by metalorganic chemical vapor deposition
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通过金属有机化学气相沉积法在蓝宝石和 6H-SiC 上生长的 AlN 薄膜的应变评估
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Inushima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N.Kato;T.Inushima
