集積シリコン量子ビット作製に向けた電子線リソグラフィ技術の開発
集積シリコン量子ビット作製に向けた電子線リソグラフィ技術の開発
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开发用于制造集成硅量子位的电子束光刻技术
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
加藤 公彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山中光一;峯岸邦夫;荒木大空;加藤 公彦
