Stress and Doping Impact on Intrinsic Point Defect Behavior in Growing Single Crystal

Stress and Doping Impact on Intrinsic Point Defect Behavior in Growing Single Crystal
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应力和掺杂对单晶生长中本征点缺陷行为的影响

DOI:
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发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
J. Vanhellemont and K. Nakamura
J. Vanhellemont and K. Nakamura
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
K. Sueoka;E. Kamiyama;J. Vanhellemont and K. Nakamura

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