Investigation of the Growth Behaviour of Cobalt Thin Films from Chemical Vapour Deposition, Using Directly Coupled X-ray Photoelectron Spectroscopy
Investigation of the Growth Behaviour of Cobalt Thin Films from Chemical Vapour Deposition, Using Directly Coupled X-ray Photoelectron Spectroscopy
复制标题
使用直接耦合 X 射线光电子能谱研究化学气相沉积钴薄膜的生长行为
DOI：
10.1515/zpch-2015-0602
复制
发表时间：
1905
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Bäumer
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
P.H. Tchoua Ngamou;A. El Kasmi;Th. Weiss;H. Vieker;A. Beyer;V. Zielasek;K. Kohse-Höinghaus;M. Bäumer
