分子レベルでの被覆を利用した高光安定性ロタキサン型アルキニルピレンの開発
分子レベルでの被覆を利用した高光安定性ロタキサン型アルキニルピレンの開発
复制标题
利用分子水平涂层开发高光稳定性轮烷型炔基芘
DOI：
--
复制
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
井上将彦
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
由澤敦史;伊藤達哉;藤本和久;佐方拓馬;松本慎哉;城始勇;井上将彦
