半導体界面における金属の仕事関数は真空で良いか？
半導体界面における金属の仕事関数は真空で良いか？
复制标题
半导体界面处的金属功函数可以在真空中吗？
DOI：
--
复制
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
西村 知紀，羅 シュアン，矢嶋 赳彬，鳥海 明
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. Nishimura;X. Luo;T. Yajima;and A. Toriumi;西村 知紀，矢嶋 赳彬，鳥海 明;西村 知紀，羅 シュアン，矢嶋 赳彬，鳥海 明
