A multi-kilohertz pinch plasma radiation source for extreme ultraviolet lithography
A multi-kilohertz pinch plasma radiation source for extreme ultraviolet lithography
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用于极紫外光刻的多千赫兹箍缩等离子体辐射源
DOI：
10.1016/s0167-9317(01)00437-3
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发表时间：
2001
影响因子：
2.3
通讯作者：
R. Poprawe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Bergmann;O. Rosier;R. Lebert;W. Neff;R. Poprawe
