分子線エピタキシー法によるSrMnBi2薄膜の単一ドメイン成長
分子線エピタキシー法によるSrMnBi2薄膜の単一ドメイン成長
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分子束外延法单畴生长SrMnBi2薄膜
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
塚﨑敦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
塩貝純一;高橋翔;井上悠;伊藤俊;木村尚次郎;淡路智;塚﨑敦
