N.Koyama: "Growth Kinetics of Ultrathin silicon dioxide films formed by oxidation in a N_2O ambient" Journal of Applied Physics. 79,3. 1464-1467 (1996)
N.Koyama: "Growth Kinetics of Ultrathin silicon dioxide films formed by oxidation in a N_2O ambient" Journal of Applied Physics. 79,3. 1464-1467 (1996)
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N.Koyama：“N_2O 环境中氧化形成的超薄二氧化硅薄膜的生长动力学”应用物理学杂志。
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