Resistance minimum due to Kondo effect and Anderson localization in PdHx ultrathin films
Resistance minimum due to Kondo effect and Anderson localization in PdHx ultrathin films
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由于近藤效应和 PdHx 超薄膜中的安德森局域化，电阻最小
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Ozawa,R.Shimizu,T.Hitosugi,K.Fukutani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
田中敬佑;南畑孝介;若林里衣;神谷典穂;後藤雅宏;T.Ozawa,R.Shimizu,T.Hitosugi,K.Fukutani
