Helium-charged titanium films deposited by direct current megnetron sputtering
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直流磁控溅射沉积充氦钛薄膜
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Chaozhuo LiuShilin Xu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Liqun Shi;Zhuying Zhou;Chaozhuo LiuShilin Xu
