Si反転層中のホールサブバンド分散」

Si反転層中のホールサブバンド分散」
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“Si反型层中的空穴子带色散”

DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
大門 寛
大門 寛
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
武田さくら;森田 誠;大杉拓也;谷川洋平;大門 寛

文献摘要

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