吉村 哲, 角田 匡清, 尾形 聡, 高橋 研: "強磁性トンネル接合用Al薄膜の酸化過程とマイクロ波励起プラズマ中の酸化種との相関"日本応用磁気学会誌. 27巻・12号. 1130-1134 (2003)
吉村 哲, 角田 匡清, 尾形 聡, 高橋 研: "強磁性トンネル接合用Al薄膜の酸化過程とマイクロ波励起プラズマ中の酸化種との相関"日本応用磁気学会誌. 27巻・12号. 1130-1134 (2003)
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Satoshi Yoshimura、Masakiyo Tsunoda、Satoshi Ogata、Ken Takahashi：“铁磁隧道结的 Al 薄膜的氧化过程与微波激发等离子体中氧化物质的相关性”，日本应用磁学学会杂志，第 27 卷。 12. 1130 -1134 (2003)
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