ナノスリットによるDNA 分子濃縮における理論 モデルを用いた印加電圧の最適化
ナノスリットによるDNA 分子濃縮における理論 モデルを用いた印加電圧の最適化
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使用纳米狭缝 DNA 分子浓度理论模型优化施加电压
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
東 直輝，福澤 健二，伊藤 伸太郎，張 賀東
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Naoki Azuma;Shintaro Itoh;Kenji Fukuzawa;Hedong Zhang;東 直輝，福澤 健二，伊藤 伸太郎，張 賀東
