物理形成量子ドット中のシリコン正孔スピンの時間制御操作と動作温度の向上
物理形成量子ドット中のシリコン正孔スピンの時間制御操作と動作温度の向上
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物理形成的量子点中硅空穴自旋的时间控制操纵和工作温度的改进
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉川 拓弥,鈴木 優作,Ibad Sayyid Irsyadul,西山 伸平,加藤 公彦,柳 永勛,村上 重則,森 貴洋,溝口 来成,米田 淳,小寺 哲夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Morishima;N. Yamaguchi;H. Sawahata;and F. Ishii;高橋 政友，鈴木 隆弘，高原 健太郎，馬場 健史，和泉 自泰;吉川 拓弥,鈴木 優作,Ibad Sayyid Irsyadul,西山 伸平,加藤 公彦,柳 永勛,村上 重則,森 貴洋,溝口 来成,米田 淳,小寺 哲夫
