Metal-oxide buffer layer for maintaining topological bumpy surface underlayer of columnar CoPt-SiO2 granular media deposited at high substrate temperature
Metal-oxide buffer layer for maintaining topological bumpy surface underlayer of columnar CoPt-SiO2 granular media deposited at high substrate temperature
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金属氧化物缓冲层，用于维持在高基底温度下沉积的柱状 CoPt-SiO2 颗粒介质的拓扑凹凸表面底层
DOI：
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发表时间：
2015
影响因子：
3.2
通讯作者：
and Satoru Awaya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shin Saito;Naoki Nozawa;Shintaro Hinata;Migaku Takahashi;Kazunari Shibuya;Kazuya Hoshino;and Satoru Awaya
