Taeho Ha, 三好隆志, 高谷裕浩, 高橋哲, 新田大輔: "光敵乱によるCMP加工表面薄膜欠陥計測に関する研究(第2報)-表面マイクロスクラッチの散乱特性-"2002年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集. 東工大(発表予定). (2002)

Taeho Ha、Takashi Miyoshi、Hirohiro Takatani、Satoshi Takahashi、Daisuke Nitta：“利用光学扰动对 CMP 加工表面进行薄膜缺陷测量的研究（第二次报告） - 表面微划痕的散射特性 -” 2002 年日本精密工程学会春季。东京工业大学学术会议论文集（即将发表）（2002 年）。