Origin of Photochemical Modification of the Resistivity of Ag(Dme-DCNQ1)2 Studied by X-ray Absorption Fine Structure
Origin of Photochemical Modification of the Resistivity of Ag(Dme-DCNQ1)2 Studied by X-ray Absorption Fine Structure
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X射线吸收精细结构研究Ag(Dme-DCNQ1)2电阻率光化学修饰的起源
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takeshi Miyamoto;他
