温度可変放射光X線回折による熱酸化およびスパッタSiO2/Si界面の熱特性評価
温度可変放射光X線回折による熱酸化およびスパッタSiO2/Si界面の熱特性評価
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变温同步辐射X射线衍射评价热氧化和溅射SiO2/Si界面的热性能
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小椋 厚志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
横川 凌;渡辺 剛;廣沢 一郎;富田 基裕;渡邉 孝信;小椋 厚志
