Contribution of electrons, Ar(3P0,2), H2O+, and H3O+ to production of OH(A2Σ+) in a micro dielectric barrier discharge of Ar/H2O
Contribution of electrons, Ar(3P0,2), H2O+, and H3O+ to production of OH(A2Σ+) in a micro dielectric barrier discharge of Ar/H2O
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Ar/H2O 微介质阻挡放电中电子、Ar(3P0,2)、H2O+ 和 H3O+ 对生成 OH(A2Σ+) 的贡献
DOI：
10.7567/jjap.54.01ac03
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Shirafuji and T. Murakami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Hosseini;S. Moosavi-Nejad;H. Akiyama;V. Menezes;T. Shirafuji and T. Murakami
