Effects of bias voltage on the surface morphology of a-C:H films deposited using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD
Effects of bias voltage on the surface morphology of a-C:H films deposited using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD
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偏压对 Ar H2 C7H8 等离子体 CVD 沉积 a-C:H 薄膜表面形貌的影响
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N. Itagaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Shiratani;T. Fang;K. Yamaki;K. Koga;D. Yamashita;H. Seo;N. Itagaki
