Structural analysis of RF sputtered Er doped Ta_2O_5 films
Structural analysis of RF sputtered Er doped Ta_2O_5 films
复制标题
射频溅射掺铒Ta_2O_5薄膜的结构分析
DOI：
--
复制
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
J.P.Bange
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
巣山;島田;大森;橋本;山口;J.P.Bange
