下妻 光夫: "低周波二層プラズマCVD法によるシリコン窒化膜の高速堆積" 真空. 34. (1991)
下妻 光夫: "低周波二層プラズマCVD法によるシリコン窒化膜の高速堆積" 真空. 34. (1991)
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Mitsuo Shimotsuma：“低频双层等离子体CVD法高速沉积氮化硅薄膜”34。（1991）真空。
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