N.Haneji, G.Segami, T.Ide, T.Suzuki, T.Arakawa, K.Tada et al.: "Electron cyclotron Resonance-Reactive Ion Etching of III-V Semiconductors by Cyclic Injection of CH_4/H_2/Ar and O_2 with Constant Ar Flow"Jpn.J.Appl.Phys.. 42・6B. 3958-3961 (2003)
N.Haneji, G.Segami, T.Ide, T.Suzuki, T.Arakawa, K.Tada et al.: "Electron cyclotron Resonance-Reactive Ion Etching of III-V Semiconductors by Cyclic Injection of CH_4/H_2/Ar and O_2 with Constant Ar Flow"Jpn.J.Appl.Phys.. 42・6B. 3958-3961 (2003)
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N.Haneji、G.Segami、T.Ide、T.Suzuki、T.Arakawa、K.Tada 等人：“通过循环注入 CH_4/H_2/Ar 和 III-V 半导体的电子回旋共振反应离子蚀刻”恒定 Ar 流量下的 O_2”Jpn.J.Appl.Phys.. 42・6B. 3958-3961 (2003)
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