Sub-micron scale patterning using femtosecond laser and self-assembled monolayers interaction
Sub-micron scale patterning using femtosecond laser and self-assembled monolayers interaction
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使用飞秒激光和自组装单层相互作用进行亚微米级图案化
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Whang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
W. Chang;Moojin Choi;Jaegu Kim;Sung;K. Whang
