Fabrication of sub100 nm size steep resist patterns by UV nanoimprinting and oxygen reactive ion etching
Fabrication of sub100 nm size steep resist patterns by UV nanoimprinting and oxygen reactive ion etching
复制标题
通过 UV 纳米压印和氧反应离子蚀刻制造亚 100 nm 尺寸的陡峭抗蚀剂图案
DOI：
--
复制
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
and Masaru Nakagawa
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Takuya Uehara;Shoichi Kubo;Nobuya Hiroshiba;and Masaru Nakagawa
