層状半導体への位置選択的キャリア注入を志向した分子性ドーパントの開発

層状半導体への位置選択的キャリア注入を志向した分子性ドーパントの開発
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开发用于位置选择性载流子注入层状半导体的分子掺杂剂

DOI:
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发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
桐谷乃輔
桐谷乃輔
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
福井暁人;三浦公平;一宮永;吉村武;芦田淳;藤村紀文;桐谷乃輔

文献摘要

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