SiおよびGeナノワイヤにおける高電界正孔輸送の解析
SiおよびGeナノワイヤにおける高電界正孔輸送の解析
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Si 和 Ge 纳米线的高场空穴传输分析
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田中一，須田淳，木本恒暢
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Tanaka;J. Suda;and T. Kimoto;田中 一，浅田 聡志，木本 恒暢，須田 淳;田中 一，須田 淳，木本 恒暢;田中一，須田淳，木本恒暢
