Passivation of Silicon Surfaces by Oxygen Radical followed by High Pressure H2O Vapor
Passivation of Silicon Surfaces by Oxygen Radical followed by High Pressure H2O Vapor
复制标题
通过氧自由基和高压水蒸气对硅表面进行钝化
DOI：
--
复制
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
and Masahiko Hasumi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Toshiyuki Sameshima;Shinya Yoshidomi;Tomohiko Nakamura;Satoshi Shigeno;and Masahiko Hasumi
