Change in Surface Morphology of Si (100) Wafer after Oxidation with Atmospheric-Pressure Plasma
Change in Surface Morphology of Si (100) Wafer after Oxidation with Atmospheric-Pressure Plasma
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大气压等离子体氧化后Si(100)晶片表面形貌的变化
DOI：
10.4028/www.scientific.net/kem.723.242
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Sano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Takei;S. Kurio;S. Matsuyama;K. Yamauchi;Y. Sano
