Alバッファー層を用いたZnO単結晶基板上の無添加ZnO薄膜の極性
Alバッファー層を用いたZnO単結晶基板上の無添加ZnO薄膜の極性
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使用Al缓冲层的ZnO单晶衬底上无添加剂ZnO薄膜的极性
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
羽田 肇
中科院分区：
文献类型：
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作者：
安達 裕;坂口 勲;大橋直樹;羽田 肇
