Y.Enta: "Growth kinetics of thermal oxidation process on Si(100) by real time ultraviolet photoelectron spectroscopy" Applied Surface Science. vol.100/101. 449-453 (1996)
Y.Enta: "Growth kinetics of thermal oxidation process on Si(100) by real time ultraviolet photoelectron spectroscopy" Applied Surface Science. vol.100/101. 449-453 (1996)
复制标题
Y.Enta:“通过实时紫外光电子能谱研究 Si(100) 热氧化过程的生长动力学”应用表面科学。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: