Low-temperature formation of amorphous InGaZnOx films with inductively coupled plasma-enhanced reactive sputter deposition
Low-temperature formation of amorphous InGaZnOx films with inductively coupled plasma-enhanced reactive sputter deposition
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采用电感耦合等离子体增强反应溅射沉积低温形成非晶 InGaZnOx 薄膜
DOI：
10.7567/jjap.54.06gc02
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发表时间：
2015
影响因子：
1.5
通讯作者：
Yuichi Setsuhara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kosuke Takenaka;Ken Cho;Yasufumi Ohchi;Hirofumi Otani;Giichiro Uchida;Yuichi Setsuhara
