R. Nakamura Y. Ohki K. Nagasawa Y. Hama: "Characterization of C10_x radicals in vacuum-ultraviolet-irradiated high-purity silica glass" Phys. Rev. B. Vol.46. 8073-8079
R. Nakamura Y. Ohki K. Nagasawa Y. Hama: "Characterization of C10_x radicals in vacuum-ultraviolet-irradiated high-purity silica glass" Phys. Rev. B. Vol.46. 8073-8079
复制标题
R. Nakamura Y. Ohki K. Nagasawa Y. Hama：“真空紫外线照射高纯石英玻璃中 C10_x 自由基的表征” Phys。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
