Properties of Hydrogenated Microcrystalline Cubic Silicon Carbide Films Deposited by Hot Wire Chemical Vapor Deposition at a Low Substrate Temperature
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低温热丝化学气相沉积氢化微晶立方碳化硅薄膜的性能
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Makoto Konagai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shinsuke Miyajima;Akira Yamada;Makoto Konagai
