OH RADICAL FORMATION ON MONOCLINIC BIVO4 IN THE PHOTO-ELECTROCHEMICAL WATER OXIDATION PROCESS
OH RADICAL FORMATION ON MONOCLINIC BIVO4 IN THE PHOTO-ELECTROCHEMICAL WATER OXIDATION PROCESS
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光电化学水氧化过程中单斜晶BIVO4上OH自由基的形成
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akira Fujishima,
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yukihiro Nakabayashi;Masami Nishikawa;Nobuo Saito;Chiaki Terashima;Akira Fujishima,
