R.Nozawa et.al.: "Substrate DC bias effects on low temperature polycrystalline silicon formation in electron cyclotron resonance SiH_4/H_2 plasma-enhanced chemical vapor deposition" J.Appl.Phys.75(in printing). (1997)
R.Nozawa et.al.: "Substrate DC bias effects on low temperature polycrystalline silicon formation in electron cyclotron resonance SiH_4/H_2 plasma-enhanced chemical vapor deposition" J.Appl.Phys.75(in printing). (1997)
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R.Nozawa 等人：“电子回旋共振 SiH_4/H_2 等离子体增强化学气相沉积中基底直流偏压对低温多晶硅形成的影响”J.Appl.Phys.75（印刷中）。
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